光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱应用多晶硅,石英,太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、SiC(碳化硅)、磷化铟、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。
光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱研发背景
集成电路光刻工艺中常使用HMDS对晶圆衬底进行黏附处理,来提高光刻胶与衬底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷(Si(CH3)3)2NH,行业所要求纯度大于99.7%。
HMDS黏附机 HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱作用
衬底在空气中易形成厚度为几个原子层的二氧化硅薄膜,由于其具有亲水性,会吸附空气中的水分到衬底表面。光刻胶涂层多为有机疏水材料,这就造成了光刻胶与衬底黏附性差。在实际生产中,常将HMDS雾化,并在特定的温度和压力条件下处理,来改变晶圆表面的亲水性。其原理可以简述为HMDS中的有机基团取代晶圆表面水分子羟基,使晶圆表面由亲水性变为疏水性。
光刻胶HMDS烘箱 HMDS疏水处理烘箱实用性
在光刻中,光刻胶的黏附效果受到光刻涂层,衬底材料,以及光刻工艺三方面的影响。HMDS的黏附处理不只是对硅基衬底有效。也用于其他衬底,诸如多晶硅,石英,太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、SiC(碳化硅)、磷化铟、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。
HMDS烘箱兼容2~12寸晶圆及碎片、方片等。
设备名称:HMDS烘箱
设备型号: JS-HMDS90
内腔尺寸:450×450×450、350×350×350(mm)可定制
材质:外箱采用优质冷轧板喷塑、304不锈钢,内箱采用316L医用级不锈钢
工艺温度:110-160℃
真空度:≤1torr
工艺运行:自动运行