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掩膜版HMDS真空烘箱    hmds烤箱

掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱

简要描述:

掩膜版HMDS真空烘箱 hmds烤箱使基底表面由亲水性变为疏水性,增强表面的黏附性(HMDS-六甲基二硅胺烷)。适用于硅片、麟化铟、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。

掩膜版HMDS真空烘箱    hmds烤箱应用原理

   掩膜版(Photomask),又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等,是微电子、集成光电子制造中光刻工艺所使用的图形母版, 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形,并通过曝光将图形转印到晶圆上。

掩模版在设计时有着明场和暗场之分,在其与之光刻胶(正、负胶)曝光时可以根据工艺时的需要来选择设计。上文已经提到正光刻胶曝光区域被溶解,负胶则相反。

掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成?;宸治髦搴筒AЩ?,玻璃基板主要包括石英基板和苏打基板,根据遮光膜种类的不同,可以分为硬质遮光膜和乳胶。

掩膜版HMDS真空烘箱    hmds烤箱功能

    材质:内箱采用316L医用级不锈钢

    工艺温度:100-150℃

    温度分辨率:0.1℃

    温度波动度:≤±0.5

    真空度:≤133pa(1torr)

    操作界面:人机界面,一键作业

    层数:1-2层

    HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量

    图像处理:图像反转

    真空泵: 进口无油泵

    保护装置:紧急停止,HMDS药液泄漏报&警提示,HMDS低液位报&警,超温?;?,漏电保护,过热?;さ?/span>

 掩膜版HMDS真空烘箱  光罩hmds烘箱  hmds预处理烤箱使基底表面由亲水性变为疏水性,增强表面的黏附性(HMDS-六甲基二硅胺烷)。适用于硅片、麟化铟、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。


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