无尘烤箱厂家无尘等级：Class 100、10; 温度范围：RT+10～300℃；用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤
清洁烤箱，无尘烤箱用于IC生产过程中极为重要的光刻工艺中预烘烤（软烘），脱水烘烤，涂胶后的坚膜烘烤（硬烘）；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、OLED、医药、实验室等生产及科研部门。
为了获得良好的聚酰亚胺性能，非常好的温度均匀性，低氧含量和低颗粒数是非常重要的，无尘烤箱,非光敏型聚酰亚胺树脂（PI）烤箱腔内的气体保持相当干净（100级），良好的温度均匀性。通过氮气吹扫可将氧气含量降低至20ppm以下。这保证了非光敏聚酰亚胺的优异工艺结果。
无尘室烤箱，半导体无尘烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门；HMDS无尘烤箱可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
无尘室干燥箱，试验用百级烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤、工装夹具烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。
加工半导体用烤箱， SECS / GEM无尘烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后固化、坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门；可以使用TCP / IP（使用HSMS标准，SEMI E37）或基于RS-232的协议与支持GEM的主机进行通信。通常这两种协议都受支持。每台设备都可以使用由GEM
无尘烘箱，不锈钢无尘烤箱无尘等级：Class 100、10; 温度范围：RT+10～300℃；用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤
