HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱可快速、均匀、经济高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 对晶圆表面进行底漆处理，从而改善光刻胶的附着力。
HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机使用HMDS（六甲基二硅氮烷）对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布，以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转，形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。
HMDS烘箱，太阳能电池片HMDS烘箱适用行业：MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备的作用是匀胶前衬底“增附”处理。在光刻中，通常会用到一些例如蓝宝石、氮化镓、砷化镓甚至是贵金属薄膜等衬底，这类衬底与光刻胶的粘附性往往不怎么理想，这会导致后续的光刻显影环节出现“裂纹”甚至是漂胶等问题。因此必须通过工艺手段改善，这个步骤我们叫做增附处理或者叫做助黏。
HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )是将“去水烘烤“和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在箱内先经过100℃-200℃的去水烘烤，再进行HMDS处理，不需要从箱内传出，而接触到空气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有更好的处理效果。
智能型HMDS真空系统（JS-HMDS90-AI）将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
