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HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱
HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱

HMDS真空系统 HMDS预处理系统 图像反转烘箱可快速、均匀、经济高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 对晶圆表面进行底漆处理,从而改善光刻胶的附着力。

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HMDS烘箱  图像反转系统 HMDS涂胶机
HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机

HMDS烘箱 图像反转系统 HMDS涂胶机使用HMDS(六甲基二硅氮烷)对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布,以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转,形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。

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HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱
HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱

HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱是涂胶前对硅片表面进行处理,可以增加硅片表面水分子的接触角,使衬底表面从亲水性转化为疏水性

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HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱
HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱

HMDS烘箱,太阳能电池片HMDS烘箱适用行业:MEMS、太阳能、电池片、滤波、放大、功率等器件,晶圆、玻璃、贵金属,SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO(氧化锌)、GaO(氧化镓)、金刚石等第三代半导体材料。

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六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备 工业烘箱
六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备 工业烘箱

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面处理设备的作用是匀胶前衬底“增附”处理。在光刻中,通常会用到一些例如蓝宝石、氮化镓、砷化镓甚至是贵金属薄膜等衬底,这类衬底与光刻胶的粘附性往往不怎么理想,这会导致后续的光刻显影环节出现“裂纹”甚至是漂胶等问题。因此必须通过工艺手段改善,这个步骤我们叫做增附处理或者叫做助黏。

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HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )-真空烘箱
HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )-真空烘箱

HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )是将“去水烘烤“和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在箱内先经过100℃-200℃的去水烘烤,再进行HMDS处理,不需要从箱内传出,而接触到空气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有更好的处理效果。

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智能型HMDS真空系统(JS-HMDS90-AI)
智能型HMDS真空系统(JS-HMDS90-AI)

智能型HMDS真空系统(JS-HMDS90-AI)将HMDS气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后,经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。

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