气相成底膜烤箱,HMDS蒸气淀积系统用于除去硅片表面的污染物(颗粒、有机物、工艺残余、可动离子),除去水蒸气,使基底表面由亲水性变为憎水性,增强表面的黏附性(HMDS-六甲基二硅胺烷)。
可程式HMDS蒸镀设备,HMDS真空镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性.
HMDS镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。