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硅片清洗設(shè)備,硅片全自動清洗機應(yīng)用于集成電路,MEMS器件,微波器件,先進封裝等工藝。去膠清洗設(shè)備,顯影清洗設(shè)備,酸堿刻蝕機。也可用于零部件清洗,石英管道清洗,外延片清洗(砷化鎵,氮化鎵,碳化硅,鈮酸鋰等
刻蝕機,半導(dǎo)體刻蝕臺用于半導(dǎo)體芯片、襯底片的清洗及濕法腐蝕、去膠、去蠟、剝離等工藝的設(shè)備。